該設備是一款小型高真空磁控濺射鍍膜儀，主要特點是設備體積小，結構簡 單緊湊易于操作，對實驗室供電要求低；該系列設備主要部件采用進口或者國內 最優的配置，從而提高設備的穩定性；另外自主開發的智能操作系統在設備的運 行重復性及安全性方面得到更好地保障。
該設備標配 2 只Φ2 英寸永磁靶，直流脈沖濺射電源(用于濺射金屬導電材料)， 全自動匹配射頻濺射電源 (用于濺射絕緣材料)  ，主要用來開發納米級單層及多  層的金屬導電膜、半導體膜以及絕緣膜等。

設備主要配置表
 

真空腔室	1Cr18Ni9Ti 優質不銹鋼材質，氬弧焊接，上開蓋和前開門結構
真空系統	機械泵+分子泵( 國產或進口可選)  ，  極限真空優于 8*10-5 Pa(設 備空載抽真空 24h )  ，大氣~8*10-4 Pa≦30min；采用電阻電離一體 化真空規管讀取真空度；閥門采用電磁驅動擋板閥和手動限流閥； 充氣系統標配 10sccm/50sccm 質量流量計各 1 套
濺射系統	Ф2 英寸永磁靶 2 支 (含靶擋板)  ，可升級為 3 支，兼容直流和射 頻，可以濺射磁性材料的靶材；直流脈沖濺射電源，全自動匹配射 頻電源可任選；標配冷卻水機系統
基片臺	Ф100mm，高度：60 ~ 120mm 可調，旋轉：0-20r/min 可調， 可加熱至 300℃，可選配偏壓清洗功能
膜厚監控儀	可選配進口或國產單水冷探頭膜厚儀
控制系統	PLC+觸摸屏智能控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現 一鍵抽停真空